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拋光漿的優(yōu)劣決定于拋光后試樣表面的質(zhì)量。因此評(píng)價(jià)各種拋光方法必須確定比較拋光面質(zhì)量的標(biāo)準(zhǔn)，比較最后拋光表面的反光能力是判斷拋光表面質(zhì)量的靈敏方法。這個(gè)方法是把晶體的解理表面，或在超真空下成長(zhǎng)的單晶體表面作為理想表面；把最后拋光表面測(cè)試所得的反光能力與其理想表面測(cè)試所得反光能力比較，用其平均偏差大小來(lái)表示拋光表面的質(zhì)量。表面反光能力愈小，質(zhì)量愈差。
顯然，拋光漿用任何拋光方法所得到的表面與其理想的解理表面相比，它們的質(zhì)量都是比較低的，用廣泛流行的拋光技術(shù)，氧化鋁磨料拋光，拋光表面的質(zhì)量最差。而電解拋光和顯微切片機(jī)切割的試樣表面，表面質(zhì)量接近理想的解理表面。拋光漿用不同拋光方法的效果，因材料而異，Sb2S3材料用氧化鋁糊漿拋光與金和銅用電解拋光得到的表面質(zhì)量一樣。
拋光漿的試樣制備的方法不同，可使實(shí)際結(jié)果偏離理想的結(jié)果，因此，根據(jù)材料選擇拋光方法是非常重要的。但是在解決實(shí)際檢驗(yàn)問(wèn)題時(shí)，只要能滿足實(shí)際的要求，一般采用簡(jiǎn)便經(jīng)濟(jì)的方法。氧化鋁和其他氧化物廣泛應(yīng)用于拋光，就是因?yàn)檫@個(gè)原因。
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